|
|
|
|
|
|||
|
Лазерно-плазменный источник рентгеновского излучения на основе ксенона Изучены эмиссионные свойства лазерно-плазменного источника мягкого рентгеновского излучения с двухпотокой импульсной газовой мишенью Xe:He. Обнаружены два устойчивых режима работы источника. При повышенном давлении Xe, а также при наличии He эффективно возбуждается эмиссионная полоса в диапазоне длин волн 5...9 нм. Без He и при низких давления Xe максимум интенсивности излучения приходится на узкую эмиссионную полосу c максимумом на длине волны 10,8 нм. Впервые измерены коэффициенты конверсии энергии лазерного излучения в рентгеновское, которые составили 2,1 % / (нм·2π страд) в спектральной области 5...9 нм и 10,5 % / (нм·2π страд) на длине волны 10,8 нм. Источник представляет значительный интерес для развиваемого в настоящее время в ИФМ РАН инновационного метода нанолитографии - безмасочной рентгеновской литографии. В отличие от оловянного источника, применяемого в проекционной литографии на длине волны 13,5 нм, мишень на основе ксенона, при сравнимой эффективности, существенно упрощает конструкцию источника и лазерную систему, минимизирует загрязнения оптических элементов, уменьшает рабочую длину волны на 20% при работе на длине волны 10,8 нм, и в 2 раза - на длине волны 6,7 нм. Уменьшение длины волны пропорционально повышает разрешающую способность литографа.
Авторы: С.А. Гарахин, И.Г. Забродин, С.Ю. Зуев, А.Н. Нечай, Н.Н. Салащенко, М.Н. Торопов, Н.Н. Цыбин, Н.И. Чхало (ИФМ РАН - филиал ИПФ РАН)
|
|||||||||||||||||||||||||||||||||||||||
